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自己整合

出典: フリー百科事典『ウィキペディア(Wikipedia)』

自己整合(じこせいごう、: Self-alignment)とは、例えば半導体等の集積回路作製プロセスにおいて、既に形成されたパターンを次のプロセスのマスクとして利用し、マスクの位置合わせ無しで次のプロセスを進めることである[1]。 また、最初のパターンあるいは形状が最終的な素子のパターンあるいは形状を決定する場合も自己整合と呼ぶ。 自己組織化 (Self-assembly) とは異なる。

関連項目

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脚注・参照

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