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ファイル:Ion implanter schematic.png

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Ion_implanter_schematic.png (500 × 486 ピクセル、ファイルサイズ: 32キロバイト、MIME タイプ: image/png)

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概要

解説
English: Schematics of an mass separating implantation/deposition setup. Ion energy at the substrate is determined by the difference of Uaccell and Udecell. Image created using Tgif.
日付
原典 投稿者自身による著作物
作者 Daniel Schwen
その他のバージョン
  • ロシア語 .svg
    ロシア語 .svg
  • 英語 .svg
    英語 .svg
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ライセンス

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このライセンスのテンプレートは、GFDLのライセンス・アップデートによりこのファイルに追加されたものです。

キャプション

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このファイルに描写されている項目

題材

成立日

3 7 2005

ファイルの履歴

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日付と時刻サムネイル寸法利用者コメント
現在の版2005年7月3日 (日) 21:482005年7月3日 (日) 21:48時点における版のサムネイル500 × 486 (32キロバイト)DschwenSchematics of an mass separating en:ion implantationimplantation/deposition setup. Ion energy at the substrate is determined by the difference of U<sub>accell</sub> and U<sub>decell</sub>. Image created by user:Dschwen u

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